[发明专利]光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其制备方法

摘要

本发明实施例提供了一种光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其制备方法，所述光学邻近效应修正方法包括：获取待修正主图形和所述待修正主图形的重叠图形及重叠边，所述待修正主图形和其他的主图形按照光刻位置重叠的部分为重叠图形，所述重叠图形在所述待修正主图形的外边缘上的边为重叠边；在待修正的所述重叠边的相邻位置设置散射条辅助图形。本发明实施例所提供的光学邻近效应修正方法中，由于所述散射条辅助图形设置于待修正的重叠边的相邻位置，可以在之后的步骤中很好地改善待修正主图形的质量，尤其是待修正的重叠边所对应位置的图形质量，从而提高所得图形中交错的部分的质量，最终可以提高所得半导体器件的合格率。