[发明专利]锡化合物、用于形成含锡层的锡前体化合物以及使用其形成薄层的方法在审
| 申请号： | 201911395054.1 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN111471068A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 柳承旻;金铭云;金润洙;李相益;林载顺;曹仑廷;赵峻希;蔡元默 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;DNF有限公司 |
| 主分类号： | C07F7/22 | 分类号： | C07F7/22;C23C16/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 贺卫国 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供了锡化合物、用于形成含锡层的锡前体化合物以及使用该锡前体化合物形成薄层的方法，所述锡化合物由式1表示，其中R |
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| 搜索关键词： | 化合物 用于 形成 含锡层 锡前体 以及 使用 薄层 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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