[发明专利]电子设备、电子设备的壳体及其加工方法有效

专利信息
申请号: 201911412298.6 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111055555B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 姚强;冷雪翔;罗逸 申请(专利权)人: 维沃移动通信(重庆)有限公司
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B17/06;B32B27/06;B32B33/00;C23C14/30;C23C14/35;H05K5/02
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 施敬勃
地址: 401122*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开一种电子设备的壳体加工方法,包括:在壳体基材上设置膜层,所述膜层包括逐层叠置的至少三层子膜层,相邻的两层所述子膜层的折射率不同,且低折射率的所述子膜层与高折射率的所述子膜层交替层叠设置,各所述子膜层的厚度为λ/4,其中,380nm≤λ≤780nm;依据设置有所述膜层的所述壳体基材制备所述壳体。本发明公开一种电子设备的壳体及电子设备。上述方案能解决目前的电子设备存在美观性能较差的问题。
搜索关键词: 电子设备 壳体 及其 加工 方法
【主权项】:
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