[发明专利]一种用于铜钼及合金膜的刻蚀液及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911418246.X 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN110923713B 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 蒋雷;李广圣;李向峰;叶宁;黄学勇;赵亚雄 申请(专利权)人: 成都中电熊猫显示科技有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18;C23F1/26
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 李小波;刘芳
地址: 610200 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种用于铜钼及合金膜的刻蚀液及其制备方法,刻蚀液包括以下组分:双氧水、双氧水稳定剂、胺类pH调节剂、络合剂、金属缓蚀剂,余量为水;所述胺类pH调节剂为式1和/或式2所示的化合物,其中,R1、R4独立的选自C14亚烷基,R2、R3、R5、R6独立的选自单键或者C24亚烷基。该刻蚀液不仅能够实现优异的刻蚀精度,更不会对金属氧化物IGZO膜层造成损伤,可以实现IGZO产品从6Mask工艺升级为5Mask工艺,有利于降低显示产品的制造成本、提高显示产品的分辨率。
搜索关键词: 一种 用于 合金 刻蚀 及其 制备 方法
【主权项】:
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