[发明专利]一种提高LEP工艺中化镀层附着力的方法及LEP化学镀产品

摘要

本发明公开了一种提高LEP工艺中化镀层附着力的方法，包括如下步骤：提供一基板；采用激光束对基板的表面进行连续扫描，得到第一扫描区域；采用激光束在第一扫描区域上进行点状扫描，打下相互之间具有间距的光斑，得到第二扫描区域；将第一、二扫描区域浸入金属离子溶液中，并在第一、二扫描区域上诱导镀制金属作为种子层；化学镀加厚种子层，在种子层的上层形成化镀层。本发明在现有LEP工艺的基础上，增加了一道激光处理工艺，即在第一扫描区域上采用激光按照一定间距打下圆形的光斑，通过加深的光斑圆孔增加了化镀层的接触面积，从而增加了化镀层的附着力，解决了LEP技术中一直存在的难题，将LEP技术在实际产品中得到了运用。