[发明专利]靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统有效
| 申请号： | 201911423845.0 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111155062B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;冀鸣;赵刚;易洪波;吴秋生 | 申请（专利权）人： | 中山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 刘延喜 |
| 地址： | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种靶材旋转结构，包括：靶材安装座以及传动机构；所述靶材安装座用于安装靶材；所述传动机构带动所述旋转轴转动以转动靶材；所述靶材安装座通过旋转轴与所述传动机构连接，所述旋转轴内设有冷却水路，以对所述靶材进行冷却。上述靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统，通过靶材安装座的旋转轴内设置的冷却水路，实现在冷水散热的同时又保证靶材能正常旋转，使得靶材可以通过水冷这种高效的散热方式来避免温度过高，提升了离子源溅射系统的溅射质量。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 结构 安装 以及 离子源 溅射 系统 | ||
【主权项】：
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