[发明专利]一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置及其应用在审

专利信息
申请号: 201911425754.0 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111141813A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 王迪;陈林;林琳;靳毅;郜晨希;刘瑞琪;远雁;郑旭;李超波;张心强 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;川北真空科技(北京)有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01L21/30;G01L27/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 方丁一
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置及其应用,所述装置包括:预处理腔室,用于将所述膜片式真空压力计中带有沉积物的膜片表面进行预处理,去除杂质;气化腔室,用于将膜片表面的沉积物气化;分析腔室,所述分析腔室与所述气化腔室连通,用于分析气化后的沉积物气体的组成成分。实现对膜片式真空压力计沉积物的成分进行分析的目的。
搜索关键词: 一种 检测 膜片 真空 压力计 沉积物 装置 及其 应用
【主权项】:
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