[实用新型]利用导电性金属结构体的半导体封装有效

专利信息
申请号: 201920053964.0 申请日: 2019-01-14
公开(公告)号: CN209843696U 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 崔伦华;崔淳性 申请(专利权)人: JMJ韩国株式会社
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L23/495;H01L23/31
代理公司: 11421 北京天盾知识产权代理有限公司 代理人: 胡凯
地址: 韩国的京畿道富*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及利用导电性金属结构体的半导体封装,尤其,涉及一种利用夹具或柱子形态的导电性金属结构体,使得半导体芯片与引线框架引线形成电性连接,并且,有效地改善半导体芯片与金属结构体结合的部分而提高生产性,并提高耐久性和电性连接特性的利用导电性金属结构体的半导体封装。即,本实用新型包括:半导体芯片;铝平板,形成于所述半导体芯片的上部;导电性金属结构体,通过焊料系列的第2粘接层与所述铝平板结合,并且,所述第2粘接层形成在与铝平板接近的部分的下部既定区域分布有金属间化合物(IMC)的形态。
搜索关键词: 半导体芯片 导电性金属 结构体 半导体封装 本实用新型 粘接层 焊料 夹具 电性连接特性 金属间化合物 引线框架引线 金属结构体 电性连接 既定区域 生产性 有效地 柱子
【主权项】:
1.一种利用导电性金属结构体的半导体封装,其特征在于,包括:/n半导体芯片;/n铝平板,形成于所述半导体芯片的上部;/n导电性金属结构体,通过焊料系列的第2粘接层与所述铝平板结合,/n并且,所述第2粘接层形成在与铝平板接近的部分的下部既定区域分布有金属间化合物(IMC)的形态。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JMJ韩国株式会社,未经JMJ韩国株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920053964.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top