[实用新型]一种光刻设备有效
| 申请号： | 201920154843.5 | 申请日： | 2019-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN209460572U | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 郑文宇;刘剑;郭孔斌;赵丹平 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例提供了一种光刻设备，该光刻设备包括主基板、气浴装置、阻尼装置和调焦调平装置，通过将调焦调平装置固定于主基板上，以及将气浴装置通过阻尼装置与主基板连接；其中，气浴装置提供的压缩气流至少覆盖调焦调平装置的辐射束的路径，并采用阻尼装置阻止气浴装置带动主基板振动，以防止气浴装置的压缩气流产生的反冲作用力带动主基板振动，从而使得主基板具有较高的稳定性，进而提高光刻设备的光刻精度。同时，阻尼装置例如可以为导热性较差的阻尼器，能够防止大量的热传导至主基板，从而保证主基板上对温度敏感的精密仪器能够稳定工作，进一步提高光刻设备的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 主基板 光刻设备 阻尼装置 调焦调平装置 压缩气流 导热性 本实用新型 精密仪器 温度敏感 装置提供 辐射束 热传导 阻尼器 反冲 光刻 覆盖 保证 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，其特征在于，包括：主基板、气浴装置、阻尼装置、以及调焦调平装置；所述调焦调平装置固定于所述主基板上；所述气浴装置通过所述阻尼装置与所述主基板连接；所述气浴装置用于提供压缩气流，所述压缩气流至少覆盖所述调焦调平装置的辐射束的路径；所述阻尼装置用于阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。
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