[实用新型]曝光组件及曝光装置有效
| 申请号： | 201920180119.X | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN209311854U | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 汤朝元;宁鹏飞;王晓鹏 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 唐清凯 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种曝光组件及曝光装置，其中，曝光组件包括：支撑架；反光镜，设置于支撑架上且包括反光曲面，反光曲面用于将光线聚集于预定焦点；曝光灯，设置于反光曲面和预定焦点之间，曝光灯内包括汞蒸气；抽气系统，包括至少一个抽气头，至少一个抽气头设置于曝光灯远离所述反光镜的一侧，且在反光曲面的聚光路径的内外可移动设置。上述曝光组件，包括至少一个抽气头，并可在反光曲面的聚光路径内外可以移动设置。当反光镜内的曝光灯发生爆灯时，抽气头可移动至聚光路径内，在有害的汞蒸气溢出支撑架之前，将汞蒸气抽走，防止汞蒸气溢出对人体产生伤害。当曝光灯正常曝光时，抽气头可移动至聚光路径外，不影响曝光组件的正常使用。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光组件 抽气头 曝光灯 汞蒸气 聚光 反光镜 反光曲面 支撑架 曝光装置 可移动 反光 溢出 本实用新型 可移动设置 抽气系统 光线聚集 移动设置 焦点 曝光 伤害 | ||
【主权项】：
1.一种曝光组件，其特征在于，包括：支撑架；反光镜，设置于所述支撑架上，所述反光镜包括用于将光线聚集于预定焦点的反光曲面；曝光灯，设置于所述反光曲面和所述预定焦点之间，所述曝光灯内包括汞蒸气；抽气系统，包括至少一个抽气头，所述至少一个抽气头设置于所述曝光灯远离所述反光镜的一侧，且在所述反光曲面的聚光路径的内外可移动设置。
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