[实用新型]一种管式PECVD设备电极对接装置有效
申请号: | 201920228654.8 | 申请日: | 2019-02-22 |
公开(公告)号: | CN210237773U | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 郭艳;张春成;李明 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种管式PECVD设备电极对接装置,包括第一对接电极和第二对接电极,第一对接电极包括第一电极座和第一安装板,第一电极座上穿设有正电极头、接地电极头和负电极头,第二电极座包括第二电极座和第二安装板,第二电极座设有三个电极头接入孔,正电极头、接地电极头和负电极头的一端插设于各电极头接入孔内,另一端均具有第一接线端,各电极头接入孔远离各电极头的一端设有第二接线端。本实用新型连接电极杆的第一电极座随着推舟滑台做直线运动,最终与连接射频电源的第二电极座连接,从而实现放电功能,该电极对接装置相对于原有的拖链机构,同样适用于移动部件,既能保证射频电源放电过程的稳定性,又省去了高昂的成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 设备 电极 对接 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的