[实用新型]一种接近式光刻机光学系统有效
| 申请号： | 201920322197.9 | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN209471337U | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 徐占辉;张晓辉;霍荣标;尹建刚;高云峰 | 申请（专利权）人： | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人： | 黄章辉 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种接近式光刻机光学系统，包括光源模块、导光管、照明镜头模块以及掩模面，所述光源模块的输出光束输入到所述导光管的输入端，所述照明镜头模块用于接收所述导光管的输出光线并输出照明光线，所述照明光线照射在所述掩模面上，使光源模块和导光管之间调试方便，便于组装和维护该光刻机光学系统。 | ||
| 搜索关键词： | 导光管 光学系统 光源模块 接近式光刻机 照明光线 照明镜头 本实用新型 输出光束 输出光线 光刻机 输入端 掩模面 掩模 调试 照射 组装 输出 维护 | ||
【主权项】：
1.一种接近式光刻机光学系统，其特征在于，包括光源模块、导光管、照明镜头模块以及掩模面，所述光源模块的输出光束输入到所述导光管的输入端，所述照明镜头模块用于接收所述导光管的输出光线并输出照明光线，所述照明光线照射在所述掩模面上。
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