[实用新型]掩模台、掩模台系统和曝光装置有效

专利信息
申请号: 201920323242.2 申请日: 2019-03-14
公开(公告)号: CN209433186U 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 吴韦志 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01H17/00
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;高德志
地址: 230001 安徽省合肥市蜀山*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种掩模台、掩模台系统和曝光装置,其中所述掩模台包括:基座、平衡块、动台,其中,所述动台适于放置掩模板;所述平衡块位于基座上,所述平衡块适于使所述动台相对于平衡块无接触移动;所述平衡块的侧壁具有噪声震动检测单元,所述噪声震动检测单元适于检测平衡块的震动或噪音,获得电信号,因而通过检测平衡块产生的震动或噪音,可以判断平衡块是否存在异常,进而可以判断线圈阵列和/或平衡块上的永磁体阵列是否存在破损或松动,或者是否达到使用寿命。
搜索关键词: 平衡块 掩模台 震动检测单元 掩模台系统 曝光装置 噪声 噪音 无接触移动 永磁体阵列 震动 使用寿命 线圈阵列 掩模板 检测 侧壁 破损 松动
【主权项】:
1.一种掩模台,包括:基座、平衡块、动台,其中,所述动台适于放置掩模板;所述平衡块位于基座上,所述平衡块适于使所述动台相对于平衡块无接触移动;其特征在于,所述平衡块的侧壁具有噪声震动检测单元,所述噪声震动检测单元适于检测平衡块的震动或噪音,获得电信号。
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