[实用新型]一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构有效
| 申请号： | 201920499932.3 | 申请日： | 2019-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN210266213U | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 袁鹏华 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | F16L5/02 | 分类号： | F16L5/02;F16L27/08;F16J15/43 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，涉及集成电路生产设备，通过环绕气管设置的磁体以及位于气管与磁体之间的磁流体构成AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，能够有效达到真空密封效果，同时不会在高速运动中损伤密封部件，使晶圆传输过程中不出现移动现象，以避免密封不良导致的真空压力下降报警，硅片对准异常报警，硅片滑片报警，减少AMAT Etch Centura AP平台设备的停机(down)次数，提升AMAT Etch Centura AP平台设备的正常运行时间(uptime)，增加FAB产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 amat etch centura ap 平台 设备 高速 旋转 气管 密封 结构 | ||
【主权项】：
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