[实用新型]一种应用于半导体废气处理设备的结构有效

专利信息
申请号: 201920702326.7 申请日: 2019-05-16
公开(公告)号: CN210473530U 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 章文军;杨春水;宁腾飞;陈彦岗;杨春涛;王继飞;张坤;闫萧;蔡传涛;席涛涛;王磊 申请(专利权)人: 安徽京仪自动化装备技术有限公司
主分类号: B01D53/32 分类号: B01D53/32;B01D53/14;F23G7/06
代理公司: 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 代理人: 郑直
地址: 241000 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种应用于半导体废气处理设备的结构,涉及半导体行业废气处理技术领域,包括机柜,所述机柜内安装有废气处理系统,所述废气处理系统包括气动三通阀,通过设置等离子体火炬、反应腔、循环水箱和水洗塔,实现废气的处理,通过设置溢流部一和溢流部二,从而降低经反应腔反应后的气体温度,对有污垢的水洗塔塔壁进行水洗,通过在上层水洗塔上设置新风组合件,使得对上层水洗塔进行通风,减少出口水气过多,本实用新型为半导体废气处理提供了一种选择,增加解决半导体废气处理的方案,处理废气安全可靠,范围广效率高。
搜索关键词: 一种 应用于 半导体 废气 处理 设备 结构
【主权项】:
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