[实用新型]一种抛光系统有效
| 申请号： | 201920774851.X | 申请日： | 2019-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN210255761U | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 姚俊;丁若晨;康振亚;杜宝瑞;郑会龙;赵世迁;文涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院工程热物理研究所 |
| 主分类号： | B24C3/04 | 分类号： | B24C3/04;B24C1/08;B24C9/00;B24C11/00;C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周天宇 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种抛光系统，包括：电解液系统(100)，用于向工具电极(200)提供电解质溶液，其中，电解质溶液中包括磨粒；工具电极(200)，用于将电解质溶液喷射于待抛光物体(500)表面；电源(300)，其正极连接待抛光物体(500)，负极连接工具电极(200)，以使待抛光物体(500)的表面在电解质溶液的作用下发生电化学反应并在磨粒作用下抛光；工控机(400)，用于控制工具电极(200)的运动及与待抛光物体(500)之间的距离。通过将电化学反应和磨粒流冲刷结合使用，磨粒一方面去除了电化学反应过程中的钝化层加速电化学反应，另一方面可冲刷待抛光物体(500)表面去除其表面的凸点，进而加速了抛光速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 系统 | ||
【主权项】：
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