[实用新型]喷淋头装置及MOCVD设备有效
申请号: | 201920781858.4 | 申请日: | 2019-05-28 |
公开(公告)号: | CN210001931U | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 贾蕾;童翔 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 102200 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种喷淋头装置及MOCVD设备,该喷淋头装置包括固定部件(1)和旋转部件(2),固定部件(1)和旋转部件(2)通过第一动密封结构(3)密封对接,形成一封闭空间(4),其中,在固定部件(1)中设置有进气口(5),该进气口(5)与封闭空间(4)连通;旋转部件(2)包括位于封闭空间(4)底部的喷淋板(21),该喷淋板(21)能够相对于固定部件(1)围绕自身轴线旋转,且在喷淋板(21)中设置有多个出气口(211),用于将封闭空间(4)中的气体喷出。本实用新型提供的喷淋头装置,可以提高混气均匀性,从而可以流场均匀性和气源利用率。 | ||
搜索关键词: | 封闭空间 固定部件 喷淋头装置 旋转部件 喷淋板 进气口 本实用新型 动密封结构 流场均匀性 密封对接 源利用率 自身轴线 出气口 均匀性 混气 喷出 连通 | ||
【主权项】:
1.一种喷淋头装置,其特征在于,包括固定部件(1)和旋转部件(2),所述固定部件(1)和旋转部件(2)通过第一动密封结构(3)密封对接,形成一封闭空间(4),其中,/n在所述固定部件(1)中设置有进气口(5),所述进气口(5)与所述封闭空间(4)连通;/n所述旋转部件(2)包括位于所述封闭空间(4)底部的喷淋板(21),所述喷淋板(21)能够相对于所述固定部件(1)围绕自身轴线旋转,且在所述喷淋板(21)中设置有多个出气口(211),用于将所述封闭空间(4)中的气体喷出。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的