[实用新型]一种晶圆级封装结构有效

专利信息
申请号: 201920789427.2 申请日: 2019-05-29
公开(公告)号: CN209963047U 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 李春阳;方梁洪;刘明明;任超;彭祎;刘凤 申请(专利权)人: 宁波芯健半导体有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/482;H01L23/488
代理公司: 44202 广州三环专利商标代理有限公司 代理人: 郝传鑫;贾允
地址: 315336 浙江省宁波市杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种晶圆级封装结构,包括:晶圆,所述晶圆上设置有若干个芯片单元,所述芯片单元上包括至少一个焊盘;再钝化层,所述再钝化层覆盖在所述芯片单元和所述焊盘,并暴露焊盘开口;第一金属种子层,所述第一金属种子层覆盖所述再钝化层和所述焊盘开口;光阻层,所述光阻层覆盖所述第一金属种子层;导电凸块,所述导电凸块设置在所述焊盘开口上;第二金属种子层,所述第二金属种子层覆盖所述芯片单元所在焊盘的另一侧;重布线层,所述重布线层覆盖所述第二金属种子层,本实用新型通过在芯片的背面布局电镀工艺,可以提高芯片的整体散热能力,从而提高产品的性能。
搜索关键词: 金属种子层 芯片单元 焊盘开口 再钝化层 焊盘 覆盖 本实用新型 导电凸块 重布线层 光阻层 晶圆 芯片 整体散热能力 电镀工艺 封装结构 种晶 背面 暴露
【主权项】:
1.一种晶圆级封装结构,其特征在于,包括:/n晶圆,所述晶圆上设置有若干个芯片单元,所述芯片单元上包括至少一个焊盘;/n再钝化层,所述再钝化层覆盖在所述芯片单元和所述焊盘,其中所述再钝化层暴露焊盘开口;/n第一金属种子层,所述第一金属种子层覆盖所述再钝化层和所述焊盘开口;/n光阻层,所述光阻层覆盖所述第一金属种子层,用于将光刻版上的图形转移到所述芯片单元上;/n导电凸块,所述导电凸块设置在所述焊盘开口上;/n第二金属种子层,所述第二金属种子层覆盖所述芯片单元所在焊盘的另一侧;/n重布线层,所述重布线层覆盖所述第二金属种子层。/n
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