[实用新型]一种炉管及LPCVD设备有效
申请号: | 201920843270.7 | 申请日: | 2019-06-05 |
公开(公告)号: | CN210163522U | 公开(公告)日: | 2020-03-20 |
发明(设计)人: | 陈海燕;李兵 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种炉管及LPCVD设备,属于太阳能电池生产技术领域。LPCVD设备包括炉管。该炉管包括管体,管体内设置有进气管,进气管包括炉尾进气管和若干炉口进气管,炉尾进气管从管体的炉尾延伸至管体的中部,炉口进气管从管体的炉口延伸至管体的中部。炉口进气管以管体的中心轴线为中心呈环形均匀分布,炉口进气管的长度依次递减,炉尾进气管与最短的炉口进气管靠近。炉口进气管设置有若干炉口出气孔,炉口出气孔包括叉设置的第一孔和第二孔,第一孔的孔径大于第二孔的孔径。炉尾进气管设有若干炉尾出气孔,炉尾出气孔的孔径沿着炉尾至炉口的方向依次减小。本实用新型使得气体均匀分布于管体内,大大改善硅片之间和片内薄膜沉积的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 炉管 lpcvd 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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