[实用新型]一种光刻板有效
| 申请号： | 201920861864.0 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN209962088U | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 张轶;刘世光;李春领 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | G03F1/60 | 分类号： | G03F1/60 |
| 代理公司： | 11010 工业和信息化部电子专利中心 | 代理人： | 张然 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻板，本实用新型的光刻板由母板和子板两部分组成，光刻图形设置在子板上，操作人员把持母板，将光刻板安装入光刻机进行光刻工艺，由于子板的厚度高于堆胶的高度，所以可以有效避免堆胶对光刻的影响，从而有效解决现有技术中因堆胶导致的光刻图形失真的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻板 子板 本实用新型 光刻图形 母板 光刻工艺 有效解决 光刻机 把持 | ||
【主权项】：
1.一种光刻板，其特征在于，包括：母板和子板；/n所述母板，用于供操作者进行把持；/n所述子板的底面与所述母板连接，所述子板的顶面设有光刻图形，所述子板的厚度高于芯片表面的边角堆胶的高度；/n通过所述母板和所述子板使光线垂直透过所述光刻板。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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