[实用新型]一种等离子体CVD装置的腔内台升降机构

摘要

本实用新型公开了一种等离子体CVD装置的腔内台升降机构，机架的工作平台上设有等离子腔，等离子腔下端的开口处设有腔体法兰，工作平台下方的机架上竖直设有导轨，升降机构包括设置在导轨上由电机驱动的升降座，升降座的一侧设有水平结构的升降台，升降台上方设有用于密封等离子腔下端开口的升降法兰，升降台与升降法兰之间设有缓冲机构，等离子体CVD装置的腔内台通过支撑管固定在升降台上，腔内台位于升降法兰的上方且与等离子腔下端的开口相对应。本实用新型的升降机构在腔内台升降时具有缓冲功能，等离子腔密封性好且升降机构的使用寿命长，具有很高的实用价值。