[实用新型]一种刻蚀槽有效
| 申请号： | 201920915548.7 | 申请日： | 2019-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN209785967U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 曹为龙;张建峰;朱元;王森 | 申请（专利权）人： | 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 224431 江苏省盐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种刻蚀槽，其属于太阳能电池技术领域，包括具有容置腔的槽体，所述容置腔的顶部具有开口，所述开口处盖设有盖板，所述盖板朝向所述容置腔的表面为盖板内表面，所述槽体内设有擦拭装置，所述擦拭装置能够沿第一方向往复运动，以对所述盖板内表面进行擦拭。本实用新型使得盖板内表面的水珠不会滴落到刻蚀槽内的硅片上，保证硅片的刻蚀质量。 | ||
| 搜索关键词： | 盖板内表面 容置腔 本实用新型 擦拭装置 盖板 刻蚀槽 硅片 太阳能电池技术 开口处 槽体 滴落 刻蚀 擦拭 水珠 开口 体内 保证 | ||
【主权项】：
1.一种刻蚀槽，包括具有容置腔的槽体(1)，所述容置腔的顶部具有开口，所述开口处盖设有盖板(2)，所述盖板(2)朝向所述容置腔的表面为盖板内表面，其特征在于，所述槽体(1)内设有擦拭装置(3)，所述擦拭装置(3)能够沿第一方向往复运动，以对所述盖板内表面进行擦拭。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
