[实用新型]一种晶圆清洗装置有效

专利信息
申请号: 201920973683.7 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN209804614U 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: 陈阳阳;冯益锋 申请(专利权)人: 杭州众硅电子科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 33200 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 陈升华
地址: 311300 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种晶圆清洗装置,在晶圆进行CMP加工后,检测晶圆并且对晶圆进行清洗。该装置包括:清洗箱体以及设置在清洗箱体外壁上的光学传感器,清洗箱体上设有安装孔,光学传感器安装在所述安装孔上,光学传感器与清洗箱体内部之间通过2~20mm的安装板隔开。本实用新型中,通过2~20mm的安装板隔开,增加光学传感器光束透过率,使有晶圆和无晶圆的判定变得更加清晰,减少晶圆误检测,提高检测效率。本实用新型中,液位检测安装在兆声箱体外壁无需与液体直接接触,不污染箱体内液体,且不受水温等因素限制,可检测沸水液面。
搜索关键词: 晶圆 光学传感器 清洗箱体 本实用新型 安装板 安装孔 隔开 沸水 光束透过 清洗装置 污染箱体 箱体外壁 液位检测 可检测 误检测 检测 外壁 液面 种晶 判定 清洗 清晰 加工
【主权项】:
1.一种晶圆清洗装置,包括:清洗箱体以及设置在所述清洗箱体外壁上的光学传感器,其特征在于,所述的清洗箱体上设有安装孔,用于检测清洗箱体内晶圆有无的光学传感器安装在所述安装孔上,所述的光学传感器与所述清洗箱体内部之间通过2~20mm的安装板隔开。/n
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