[实用新型]一种真空磁控溅射平面阴极体的绝缘结构有效

专利信息
申请号: 201920977613.9 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN210140623U 公开(公告)日: 2020-03-13
发明(设计)人: 吴壮;解孝辉;俞亚军;张青涛 申请(专利权)人: 吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陈婷婷
地址: 215222 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种真空磁控溅射平面阴极体的绝缘结构,应用于真空磁控溅射设备,真空磁控溅射设备至少包括盖板、平面阴极体、夹在盖板与平面阴极体之间的绝缘垫,盖板与平面阴极体之间还设置有用于冷却平面阴极体的进水管和出水管,进水管和出水管都套设有第一绝缘套,第一绝缘套包括连接在盖板上的第一保护套、以及连接在平面阴极体上的第二保护套,第一保护套和第二保护套都为管形且轴侧端部相抵触,真空磁控溅射平面阴极体的绝缘结构还包括第二绝缘套,进水管和出水管都设置在同一个第二绝缘套中,第二绝缘套包括至少两个弧形的绝缘片。第二绝缘套能够阻隔盖板与平面阴极体导通,且其拆卸安装都较为简单,缩短了维护时间。
搜索关键词: 一种 真空 磁控溅射 平面 阴极 绝缘 结构
【主权项】:
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