[实用新型]一种单晶硅片的双面抛光装置有效

专利信息
申请号: 201920995213.0 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN210209924U 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 杜建伟;周伟平 申请(专利权)人: 江苏晶成光学有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/06
代理公司: 南京聚匠知识产权代理有限公司 32339 代理人: 宋艳
地址: 221700 江苏省徐州市丰*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种单晶硅片的双面抛光装置,包括机身,机身的上方水平布置有顶板,机身上连接有导柱,导柱上可上下滑动地套接有升降盘,顶板上布置有液压缸;升降盘中下端固定连接有第一转轴,第一转轴上可转动地连接有上抛光盘;机身上端可转动地布置有连接盘,连接盘的上端开设有用于容置上抛光盘的上T型槽,连接盘内位于上抛光盘正下方的位置布置有下抛光盘,连接盘内位于上T型槽与下抛光盘中间的位置布置有用于夹紧固定单晶硅片的夹紧固定装置;下抛光盘的中部固定连接有第二转轴,第二转轴的上端可与第一转轴卡接,第二转轴的下端连接有布置在机身内侧的第一电机。本实用新型通过可转动的连接盘,能够保证抛光效果,提高抛光效率。
搜索关键词: 一种 单晶硅 双面 抛光 装置
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