[实用新型]一种磁控溅射设备中的镀膜结构有效
| 申请号： | 201921086612.1 | 申请日： | 2019-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN210560705U | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 夏熙;陈培专;李仁龙;魏昌华;高翔 | 申请（专利权）人： | 绵阳金能移动能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 贾晓燕 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射设备中的镀膜结构，包括：一腔板，其内开设有一半密封U型腔，半密封U型腔内均布设置有多个第一隔板，两两第一隔板之间构成一独立的镀膜空间，镀膜空间的一侧设置有一安装板，其上开设有两第一固定孔，腔板上开设的有两与第一固定孔相配合的第二固定孔，第一固定孔与第二固定孔之间设置有镀膜靶材；一门板，其上可转动设置有一镀膜辊，镀膜辊的周向上套设有一待镀膜基板，门板上还固定设置有一半圆型架，半圆型架与所述镀膜辊间隙配合，半圆型架上均布设置有多个与第一隔板相配合的第二隔板；采用本实用新型的镀膜结构，能够提高各镀膜空间内的气密性，防止窜气，减小摩擦阻力，提高镀膜质量与效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 设备 中的 镀膜 结构 | ||
【主权项】：
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