[实用新型]抛光垫及抛光设备有效
| 申请号： | 201921134857.7 | 申请日： | 2019-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN210452283U | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 姜宏 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 吴欢燕 |
| 地址： | 102200 北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，提供一种抛光垫及抛光设备，抛光垫包括表面功能层和基底层，所述表面功能层和所述基底层之间设有分离层，所述表面功能层和所述基底层均可拆卸的与所述分离层连接；抛光设备，包括如以上所述的抛光垫和抛光机，所述抛光垫可拆卸的安装在所述抛光机的盘面上。通过在表面功能层和基底层之间设置分离层，保证表面功能层和基底层与分离层均可拆卸的连接，实现基底层的可重复利用，只需拆卸表面功能层进行更换即可，降低了抛光生产成本，结构简单，操作方便。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 | ||
【主权项】：
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