[实用新型]一种三层可排气镭雕装置有效
| 申请号： | 201921162817.3 | 申请日： | 2019-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN211248785U | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 沈文斌 | 申请（专利权）人： | 和宏华进纳米科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/70;B23K26/16 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 高振红 |
| 地址： | 201500 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种三层可排气镭雕装置，包括中空结构的镭雕壳体及设置于所述镭雕壳体上方的镭雕仪，所述镭雕仪底部设有激光头，所述激光头自所述镭雕壳体顶壁穿入，并朝下布置；所述镭雕壳体内自上而下依次设有载物平台一、载物平台二和载物平台三；所述镭雕壳体底部设有底座。通过设置三层载物平台结构，当一载物平台上的工件在雕刻时，其余载物平台可以进行上下料工序，从而可以避免镭雕模组因上下料工序而闲置这一情况，有利于提高设备利用率以及提高生产效率；另外通过镭雕腔室和排气管的使用，能够有效地避免镭雕过程中产生的废气随意排放至大气中，造成空气污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三层 排气 装置 | ||
【主权项】：
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