[实用新型]一种用于化学气相沉积设备的馈通装置有效
申请号: | 201921228115.0 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN210711734U | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 王丽娜 | 申请(专利权)人: | 美若科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 广州文衡知识产权代理事务所(普通合伙) 44535 | 代理人: | 李丽 |
地址: | 276800 山东省日照市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型涉及化学气相沉积技术领域,且公开了一种用于化学气相沉积设备的馈通装置,包括外筒,所述外筒的内壁套接有旋转筒,旋转旋转筒通过旋转筒上的圆形槽可以控制所有气体通道开启和闭合,外筒的外壁固定连接有底座,底座里设置有转动轮、内外圈和三角叶片,扭动旋转钮通过旋转杆的传递可以控制转动轮的转动,转动轮转动带动外圈转动,外圈转动又通过连接杆带动了三角叶片的闭合,三角叶片的闭合控制了内圈气体通道的闭合,从而达到了控制单个气体通道的目的,本实用新型结构简单,操作容易,通过底座部分和旋转筒部分,达到了有效控制馈通装置气体进入的效果,具有工作效率高、节约原材料等有益效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 沉积 设备 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的