[实用新型]一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台有效
申请号: | 201921252434.5 | 申请日: | 2019-08-05 |
公开(公告)号: | CN210778477U | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 程跃;鲍晋珍;武倩 | 申请(专利权)人: | 上海恩捷新材料科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20;H01J37/30;H01J37/305;G01N1/36 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201399 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台,其特征在于,包括垂直定位区和水平定位区,其特征在于,显微镜垂直定位区包括定位柱I和定位孔,定位柱I凸出台面,定位孔凹于台面;显微镜水平定位区包括定位柱II和定位柱III,定位柱II和定位柱III均凸出台面。由于显微镜垂直定位区结构的变化,当样品座垂直放置于显微镜垂直定位区上,样品座不能做左右前后或旋转运动,样品座位置获得固定,便于样品进行更为准确的X方向加工位置定位。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子 研磨 截面 加工 专用 显微镜 样品 | ||
【主权项】:
暂无信息
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