[实用新型]一种TFT用高纯铝蚀刻液生产装置有效

专利信息
申请号: 201921405335.6 申请日: 2019-08-27
公开(公告)号: CN211098792U 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 戈士勇;何珂 申请(专利权)人: 江阴润玛电子材料股份有限公司
主分类号: B01F13/10 分类号: B01F13/10;B01F15/06;C23F1/20
代理公司: 江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙) 32380 代理人: 曹键
地址: 214423 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种TFT用高纯铝蚀刻液生产装置,包括底架板和储料桶,所述底架板的顶部中间左侧位置处设置有储料桶,所述储料桶的顶部位置处设置有传输管,所述传输管的顶部位置处与储料桶相对应的位置处设置有抽取泵,所述传输管的前端中间位置处设置有固定架,本实用新型在现有的设备的基础上加装了新型的混合桶,在混合桶内设置有多个导热搅拌棍,导热搅拌棍可以在搅拌的过程中通过工作电机进行加热工作并且可以有效的转动,不仅可以有效的辅助将蚀刻液的生产原料混合在一起,同时可以对蚀刻液原料进行加热工作,有效的提高了蚀刻液的混合生产效率,同时可以有效的提高生产出的蚀刻液的蚀刻工作效率。
搜索关键词: 一种 tft 高纯 蚀刻 生产 装置
【主权项】:
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