[实用新型]集成电路和半导体晶片有效

专利信息
申请号: 201921428861.4 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN210897284U 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: P·弗纳拉;F·马里内特 申请(专利权)人: 意法半导体(鲁塞)公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112;G11C17/16
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;吕世磊
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开的实施例涉及一种集成电路和半导体晶片。该集成电路包括存储器单元,该存储器单元包含反熔丝器件。该反熔丝器件包括状态晶体管,其具有控制栅级和被配置为浮置的第二栅极。选择性地断开控制栅级和第二栅极之间的介电层,以便在反熔丝器件上赋予击穿状态,其中第二栅极电耦合至控制栅级,用于存储第一逻辑状态。否则,反熔丝器件处于非被击穿状态,用于存储第二逻辑状态。
搜索关键词: 集成电路 半导体 晶片
【主权项】:
暂无信息
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