[实用新型]一种半导体设备有效

专利信息
申请号: 201921578609.1 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN211689197U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 林信南;游宗龙;刘美华;李方华;児玉晃;板垣克則 申请(专利权)人: 深圳市晶相技术有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 王华英
地址: 518000 广东省深圳市坪山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提出一种半导体设备,该半导体设备包括:生长腔体;清洗腔体,连接于所述生长腔体之前;其中,当基板设置在所述清洗腔体内时,所述清洗腔体内形成等离子体,所述等离子体用于对所述基板进行清洗。本实用新型提出的半导体设备设计合理,能够提高镀膜的均匀性。
搜索关键词: 一种 半导体设备
【主权项】:
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