[实用新型]一种新型掩膜版

摘要

本实用新型公开了一种新型掩膜版，包括掩膜版本体，所述掩膜版本体的下表面设有遮光层形成遮光区，所述掩膜版本体的下表面还形成有透光区，所述掩膜版的的下方还设有曝光基板，所述曝光基板对应掩膜版的透光区形成曝光区，所述掩膜版本体的下表面、对应透光区还向内开设有凹槽，所述凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，所述内凹曲面使边缘的偏折光束发生全反射，可以使得曝光基板的曝光区不会增大，提高曝光机的加工精度，可以生产更高分辨率、高开口率的产品。