[实用新型]一种低阻抗铜膜有效

专利信息
申请号: 201921597965.8 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN211256068U 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 吕敬波;赵飞;胡业新;于佩强;刘世琴 申请(专利权)人: 江苏日久光电股份有限公司;浙江日久新材料科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/18;C23C14/02;C23C14/06;H01B5/14
代理公司: 苏州科仁专利代理事务所(特殊普通合伙) 32301 代理人: 陆彩霞;周斌
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种低阻抗铜膜,包括基材层、起导电功能的纳米铜层,还包括设置于基材层与纳米铜层之间增强纳米铜层的附着力的二氧化锆连接层、覆盖于纳米铜层上改善纳米铜层视觉效果的黑化层。本实用新型提供了一种低阻抗铜膜,在基材层上溅射纳米铜层之前,先在基材层上溅射一层二氧化锆连接层,从而大大提高了纳米铜层相对基材层的附着力,避免纳米铜层相对基材层脱膜现象,制程简单、良率高,构造组合耐弯折性好,尤其适合大尺寸触摸屏,结合黑化层大大减低铜反射,改善视觉效果。
搜索关键词: 一种 阻抗
【主权项】:
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