[实用新型]一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台

摘要

本实用新型涉及铝膜工艺技术领域，具体为一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，包括真空舱，真空舱中设置有控制装置，控制装置包括扩散箱、铰接座、升降座和压力装置，扩散箱形状为一端开口的箱壳体结构，扩散箱的上端连接有铰接座，铰接座的两端各设置有一个升降座，扩散箱上和铰接座相邻的两个侧壁上各设置有一个压力装置，且两个压力装置对称分布，压力装置包括控制体、弹簧片、控制块、蜗杆、控制板和辅助轮，本实用新型构造设计实现了铝气体高效附着到待加工膜上，且避免了铝气体的浪费，提高镀铝膜的工作质量，进而提高产品合格率，很具有实用性。