[实用新型]遮挡条和掩膜板组件有效
申请号: | 201921785370.5 | 申请日: | 2019-10-22 |
公开(公告)号: | CN210894986U | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 韩超杰;陈聪;李洋;冉应刚;蔡晓义 | 申请(专利权)人: | 信利(惠州)智能显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黄鸿华 |
地址: | 516029 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及遮挡条和掩膜板组件,遮挡条的两端分别用于抵接在框架上,遮挡条相对的两端分别设置有连接结构,连接结构用于与框架焊接或粘接,遮挡条远离连接结构的位置开设有套接槽,套接槽用于活动套设在框架的定位块上。当遮挡条安装于框架上时,通过连接结构将遮挡条通过焊接或粘接与框架连接,这样,便能使得遮挡条固定于框架上,同时,将遮挡条的套接槽套设于定位块上,使得定位块的外侧表面活动抵接于套接槽的壁部,从而使得遮挡条受到压力时,套接槽的壁部抵接于定位块的外侧表面,使得遮挡条获得支撑,避免了遮挡条仅通过焊点或粘接点受力,从而避免焊点或粘接点容易断裂。 | ||
搜索关键词: | 遮挡 掩膜板 组件 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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