[实用新型]一种高温ALD前驱体源储存装置有效
申请号: | 201921893384.9 | 申请日: | 2019-11-05 |
公开(公告)号: | CN210916246U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 张华芹;吴海龙;刘非;赵昀 | 申请(专利权)人: | 上海韵申新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 上海愉腾专利代理事务所(普通合伙) 31306 | 代理人: | 谢小军 |
地址: | 201612 上海市松江区漕河泾开发*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种高温ALD前驱体源储存装置,包括源瓶瓶体、上封头和下封头,所述瓶体内设有加热组件,所述上封头的外侧连接阀门管件,所述阀门管件包括两个VCR接头,所述两个VCR接头分别连接有第一隔膜阀和第二隔膜阀,所述第一隔膜阀的底部设有延伸至瓶体内部的进料接管,所述进料接管的底部连接有进料管,所述第二隔膜阀的底部设有延伸至瓶体内部的出口接管,所述出口接管的底部设有出口气泡发生器,所述源瓶瓶体上设有液位计。本实用新型提供的一种高温ALD前驱体源储存装置,通过在装置上设置液位计和蒸汽出口阀门调节加热汽化输出的汽化量,可极限利用储存装置中昂贵的化学品源,提高化学品利用率,降低成本,利于工艺参数的控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 高温 ald 前驱 储存 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的