[实用新型]一种连续自动真空镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201921895444.0 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN210736880U 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 海玉龙;郭红波;周杰 申请(专利权)人: 苏州赛睿达纳米科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,尤其涉及一种连续自动真空镀膜设备,解决现有技术中存在效率低下、成本增加、镀膜间隔时间长的缺点,包括壳体,所述壳体的内部设有真空镀膜室,所述壳体的两侧分别通过螺母螺栓固定有支架和底座,所述支架的顶部通过螺栓安装有气缸,气缸的内部设置有活塞杆,所述活塞杆的另一端通过螺栓连接有移动隔板,移动隔板端部设有密封件,在每次更换工件时,可先将分隔室封闭,使工件与真空镀膜室的内部分隔,在工件更换进入后,再将分隔室打开进行镀膜加工,此时真空镀膜室内只存有少量的气体,可以快速地将真空镀膜室抽至真空,大大地提高了镀膜加工的效率且降低了生产成本。
搜索关键词: 一种 连续 自动 真空镀膜 设备
【主权项】:
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