[实用新型]轮档架构有效
| 申请号： | 201921954706.6 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN210742675U | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 余寅生;刘大玖;李睿 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201315 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于光刻机线排的轮档架构包括：主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；线排固定结构，其设置在所述自锁框架结构的内侧，其插入线排的线间凹部相配合使线排被固定在自锁框架结构内。本实用新型能够避免线排涉水造成设备损坏，能将线排固定(包括临时固定)增加稳定性进而避免线排位置不固定影响人员操作，能适用于各种宽度高度的线排，能节省光刻机设备维护时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 架构 | ||
【主权项】：
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