[实用新型]真空溅镀系统有效

专利信息
申请号: 201921973356.8 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN211227316U 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 郭金柱;郑博仁;黄泳钊 申请(专利权)人: 威欣系统股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军;史瞳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种真空溅镀系统,适用于在至少一基板上沉积薄膜,所述真空溅镀系统包含腔体、基座、自动化横移台车,及自动化取放片单元。所述腔体界定出制程腔室及邻近所述制程腔室的低真空腔室,并包括设置于所述制程腔室与所述低真空腔室之间的真空阀门。所述基座设置于所述制程腔室且用于承载所述至少一基板。所述自动化横移台车可移动地设置于所述低真空腔室并供至少一待溅镀基板置放。所述自动化取放片单元可移动地设置于所述低真空腔室且用以移动置放于所述基座上的所述至少一基板,或是置放于所述自动化横移台车上的所述至少一待溅镀基板。通过前述真空溅镀系统的结构,可避免在制造过程中破真空更换所述至少一基板且可降低耗费的时间并增加产能。
搜索关键词: 真空 系统
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