[实用新型]一种高电容结构的阵列基板有效

专利信息
申请号: 201922000569.9 申请日: 2019-11-19
公开(公告)号: CN210668373U 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 岳华琦;陈宇怀 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 代理人: 徐剑兵;张忠波
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开一种具有高电容结构的阵列基板,包括:在阵列基板上设置有缓冲层,在缓冲层上设置有孔,孔外的缓冲层上设置有薄膜场效应晶体管;在孔内及孔与孔之间缓冲层的面上依次设置有第一电极、第一电极绝缘层、第二电极、第二电极绝缘层和第三电极,第一电极作为下层电容结构的极板;本方案的具有高电容结构的薄膜场效应晶体管,高电容结构驱动下的电路具有更好的稳压效果,可以增大储存电容的容值同时减小电容的占用面积,也具有提高面板像素密度(ppi)与缩小面板边框尺寸的优势。
搜索关键词: 一种 电容 结构 阵列
【主权项】:
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