[实用新型]一种掩膜基片和掩膜板有效
| 申请号： | 201922014947.9 | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN211367702U | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 虞阳;张浩瀚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;冯建基 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种掩膜基片和掩膜板。该掩膜基片用于发光材料蒸镀，包括有效使用区和调整固定区，调整固定区围设于有效使用区外围，有效使用区与调整固定区采用相同材料且形成为一体，调整固定区的背离有效使用区的四周边缘均设置有待夹持结构，待夹持结构用于掩膜基片张网固定时被张网机夹持。该掩膜基片张网时在四周各个方向上都能拉伸控制，从而避免掩膜基片张网时某个方向不被拉伸控制所导致的掩膜基片在该方向上出现内缩现象，同时，还能确保掩膜基片在张网时焊接热应力的作用下，不会产生整体偏移，而且能确保掩膜基片在清洗、蒸镀过程中不容易受到损伤，提高了掩膜基片的张网成功率、张网精度和蒸镀时的工艺精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜基片 掩膜板 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201922014947.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种电池绝缘抗阻检测电路及其检测装置
- 下一篇：一种有色金属退火炉用支撑装置
- 同类专利
- 专利分类
