[实用新型]一种等离子刻蚀机的下电极屏蔽装置有效

专利信息
申请号: 201922024680.1 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN211017019U 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 廖海涛;孙文彬 申请(专利权)人: 无锡邑文电子科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01J37/32
代理公司: 常州唯思百得知识产权代理事务所(普通合伙) 32325 代理人: 金辉
地址: 214000 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种等离子刻蚀机的下电极屏蔽装置,具体涉及半导体技术领域,包括屏蔽铝板,所述屏蔽铝板的顶端表面设有限位孔,且屏蔽铝板的底端设置有第一屏蔽绝缘筒,所述第一屏蔽绝缘筒的一侧设置有第二屏蔽绝缘筒,且第一屏蔽绝缘筒与第二屏蔽绝缘筒的内部设置有下电极射频柱。本实用新型设置了卡箍组件,当下电极射频柱安装后,将第一卡块以及第二卡块套在第一屏蔽套筒与第二屏蔽套筒的周向侧外壁上,使用紧固螺栓嵌入到定位孔的内部,可将下电极射频柱与第一屏蔽套筒以及第二屏蔽套筒连接,进而实现了下电极射频柱的屏蔽,并且可同时实现多个电极射频柱的屏蔽,解决了下电极射频柱屏蔽效果差的问题。
搜索关键词: 一种 等离子 刻蚀 电极 屏蔽 装置
【主权项】:
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