[实用新型]一种掩膜版用的曝光补偿装置有效
| 申请号： | 201922098140.8 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN210626879U | 公开（公告）日： | 2020-05-26 |
| 发明（设计）人： | 叶小龙;王栋 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/76 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 彭家恩;郭燕 |
| 地址： | 518104 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，承载板的另一侧具有承载面，承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头需要与掩膜版保持恒定的距离，以保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版时，光刻机镜头从斜面掩膜版厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时，光刻机镜头与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常。因此，在曝光斜面掩膜版时，将斜面掩膜版放置到承载板上，使得斜面掩膜版上表面平行于光刻机平台。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版用 曝光 补偿 装置 | ||
【主权项】：
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