[实用新型]一种双面镀膜机有效

专利信息
申请号: 201922152129.5 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN211227346U 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 郭爱云;朱选敏 申请(专利权)人: 武汉科瑞达真空科技有限公司
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C14/35;C23C14/50;C23C16/458;C23C16/50
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 谢洋
地址: 430000 湖北省武汉市东湖高新技术开发区高新*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型涉及一种双面镀膜机,包括真空腔体、基片装载转盘、多套溅射镀膜系统、高真空获得系统和粗真空获得系统;基片装载转盘设置在真空腔体内,且为齿轮结构;基片装载转盘上设置有嵌槽;多套溅射镀膜系统安装在真空腔体两侧壁,沿半径发散布置;高真空获得系统安装在真空腔体顶部;粗真空获得系统通过管道与真空腔体后壁连接。本实用新型通过在多套溅射镀膜系统之间设置基片装载转盘,并在基片装载转盘设置嵌槽用于固定片状工件,基片装载转盘在转动过程中,使得片状工件相对多套溅射镀膜系统的两面能够经过多套溅射镀膜系统形成的有效镀膜区域,从而使得片状工件的双面能够逐渐镀材沉积最终完成双面镀膜。
搜索关键词: 一种 双面 镀膜
【主权项】:
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