[实用新型]衬底台、光刻设备和液体限制系统有效
| 申请号： | 201922170733.0 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN213122596U | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | T·波耶兹;B·D·斯霍尔滕;D·W·哈伯特;L·H·J·斯蒂文斯;L·M·费尔南德斯迪亚兹;J·A·C·M·皮耶宁堡;A·A·索图特;W·J·J·韦尔特斯;J·M·W·范德温克尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种衬底台、一种光刻设备和一种液体限制系统。提供了一种用于浸没系统的衬底台，所述浸没系统包括：投影系统，布置成将图像投影到衬底上；和液体限制系统，配置成将浸没液体限制在所述投影系统和所述衬底之间的空间中。所述衬底台包括：衬底保持器，配置成保持衬底；和电流控制装置，布置成在所述浸没液体被限制在所述空间中的同时减小在所述衬底和所述衬底保持器之间流动的电流。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 光刻 设备 液体 限制 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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