[实用新型]一种直写式曝光机用台面清洁结构有效

专利信息
申请号: 201922182846.2 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN211454230U 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 肖磊 申请(专利权)人: 上海探跃半导体设备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京华识知识产权代理有限公司 11530 代理人: 乔浩刚
地址: 200120 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种直写式曝光机用台面清洁结构,包括曝光机本体、风机管道和电动机,所述曝光机本体的内侧安装有玻璃台面,且玻璃台面的上方设置有清洁辊,所述清洁辊的外侧连接有防护块,所述清洁辊的表面预留有吸尘孔,且清洁辊的两端通过进气管和连接管相连,所述进气管的外侧套设有齿轮,且齿轮下方的曝光机本体上固定有固定板,所述连接管的外侧套设有套块,所述电动机安装在曝光机本体的外侧,且电动机的端头处连接有电机轴。该直写式曝光机用台面清洁结构,通过粘尘贴以及吸尘的方式对台面上灰尘进行清理,能够更好的提升清洁效率,也无需对粘尘贴频繁更换,并且设有对台面进行保护的机构,能够避免对台面造成损坏。
搜索关键词: 一种 直写式 曝光 台面 清洁 结构
【主权项】:
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