[实用新型]一种超低功率半导体功率器件有效

专利信息
申请号: 201922185672.5 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN210607273U 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 丁磊;侯宏伟 申请(专利权)人: 张家港凯思半导体有限公司;江苏协昌电子科技股份有限公司;张家港凯诚软件科技有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336
代理公司: 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人: 夏平
地址: 215612 江苏省苏州市张*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提出一种超低功率半导体功率器件,其在半导体基板的N‑型外延层上表面开有三个沟槽,第一沟槽的下半内壁覆盖场氧化层,场氧化层内淀积导电多晶硅,第一沟槽的上半内壁及其外围覆盖栅极氧化层,栅极氧化层内淀积栅氧多晶硅,第二、第三沟槽内壁及其外围覆盖场氧化层,场氧化层内淀积导电多晶硅,导电多晶硅上方均覆盖栅极氧化层,第一沟槽外围的氧化层上方覆盖源极金属至第一源极孔内,第一沟槽上方的氧化层上方覆盖栅极金属至栅极孔内,第二沟槽上方覆盖源极金属至第二源极孔内,N+型衬底下表面设有背面电极。本实用新型采用4层光罩层数,相比现有的6‑7层的光罩技术,减少了光罩层数,在保证性能的前提下,有效降低了制造成本。
搜索关键词: 一种 功率 半导体 器件
【主权项】:
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