[实用新型]半导体器件及其结边缘区有效

专利信息
申请号: 201922343333.5 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN210984729U 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 杜文芳 申请(专利权)人: 南京芯舟科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 亓赢
地址: 210000 江苏省南京市浦口区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请是一种半导体器件及其结边缘区,结边缘区包括同导体类型叠层结构的半导体衬底及其上方的外延层,结边缘区包括一个以上的环单元,其包括在外延层上设置的多数个槽,邻接槽底的第一浮空区,及半导体衬底与外延层之间的第二浮空区。每一个槽内部设置双层的屏蔽多晶硅与栅极多晶硅,通过第一绝缘介质相互隔离,并与半导体衬底及浮空区相隔离。半导体衬底表面设置第二绝缘介质,其覆盖、邻接或邻近第一绝缘介质。第一、二金属层分别设置于结边缘区的上、下两端,第一金属层通过第二绝缘介质上的开口而接触所述栅极多晶硅。
搜索关键词: 半导体器件 及其 边缘
【主权项】:
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